主流回收工藝分類 當前ITO靶材回收主要圍繞銦元素提取展開，主要分為物理法、化學法和聯(lián)合工藝三類： 熔煉過濾法（物理法） 通過高溫熔煉結(jié)合篩網(wǎng)過濾實現(xiàn)銦與其他金屬的分離。具體流程包括： 廢銦塊在625℃熔煉爐中熔化，利用鐵/不銹鋼篩網(wǎng)（30-40目）截留固態(tài)雜質(zhì)鐵、鋁。 熔融銦通過重力滴落收集，殘留物可二次熔煉提升回收率至72%。 該方法具有設(shè)備簡單（圖1）、周期短（單次處理≤60分鐘）的優(yōu)勢，適用于含銦量70%-90%的廢靶材。但需控溫（±5℃），否則雜質(zhì)金屬可能熔化導致純度下降至95%以下。

回收1噸銦可減少50噸原礦開采，成本降低30%~50%。高純銦需求穩(wěn)定，半導體和光伏領(lǐng)域推動回收緊迫性。濕法、火法冶金等技術(shù)靈活適配不同廢料，實現(xiàn)資源可持續(xù)利用。

當前，銦的主要消費領(lǐng)域集中在ITO靶材上，其占比高達約70%。此外，半導體制造和合金領(lǐng)域的需求也不容忽視，兩者合計占總消費量的24%，而其他研究領(lǐng)域則占據(jù)了6%。然而，由于ITO制造過程中靶材利用率僅達30%左右，導致大量剩余材料成為廢料。加之電子廢棄物的激增，銦回收已成為資源可持續(xù)利用不可或缺的一環(huán)。隨著技術(shù)進步和應用需求的增長，ITO廢料回收能有效減少原礦資源消耗，實現(xiàn)資源的可持續(xù)性發(fā)展。

ITO靶材，即銦錫氧化物靶材，主要由氧化銦（In?O?）和氧化錫（SnO?）組成，其中氧化銦占比高達90%。ITO靶材因其優(yōu)異的導電性和高透光性，成為液晶顯示器（LCD）、觸摸屏及太陽能電池等光電設(shè)備的理想材料。其晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，電導率高，確保了設(shè)備的運行。