甘露醇糖高速研磨分散機(jī)，微生物發(fā)酵高速研磨分散機(jī)，結(jié)晶工藝納米研磨分散機(jī)
結(jié)晶廣泛應(yīng)用于、化工與食品生產(chǎn)中，用來分離與純化目標(biāo)化合物。雜質(zhì)不僅對結(jié)晶過程，并且也對結(jié)晶產(chǎn)品的質(zhì)量，如晶型、純度、粒度與形貌等產(chǎn)生影響。對于結(jié)構(gòu)差異較大的雜質(zhì)，目前為普遍的方法是運(yùn)用目標(biāo)化合物與雜質(zhì)的溶解度差異選擇結(jié)晶溶劑與合適的結(jié)晶方法來純化。
雜質(zhì)影響析出晶型：這種情況雖然出現(xiàn)概率相對較低，但偶爾也會遇到。這種雜質(zhì)通過抑制穩(wěn)定晶型的成核和生長，更傾向于誘導(dǎo)亞穩(wěn)晶型的析出。此時(shí)需要用可靠的分析方法確認(rèn)雜質(zhì)與晶型的關(guān)系，需要指出當(dāng)把哪個(gè)雜質(zhì)含量控制在什么范圍方可制備目標(biāo)晶型。同時(shí)需要從結(jié)晶和合成的角度對雜質(zhì)進(jìn)行控制。
粗料與純料溶解度存在差異：需要檢測粗料在結(jié)晶溶劑中的平衡溶解度，調(diào)整起始溶劑的體積與比例，可以使粗料完全溶清。終點(diǎn)溶劑比例與溫度做出調(diào)整，確保收率與純化效果的平衡。
粗料純度過低：此時(shí)需要討論合成工藝優(yōu)化后，結(jié)晶前粗料的純度落腳范圍。隨后可以通過粗料與純料混合的方式配制純度略高的粗料來評估純化效果。如果仍出現(xiàn)純化效果有限或成油出膠等問題，需要及時(shí)更換結(jié)晶溶劑與調(diào)整工藝參數(shù)。
如果雜質(zhì)被API形成的團(tuán)聚物包裹在內(nèi)而難以被溶液結(jié)晶的方式除去。首先需要通過PLM和SEM觀測樣品是否存在團(tuán)聚。另外通過粉碎或濕法研磨的方式破除團(tuán)聚后再打漿查看雜質(zhì)的去除效果。對于這類雜質(zhì)可以通過解除團(tuán)聚的方法優(yōu)化結(jié)晶工藝，比如結(jié)晶過程中使用較低的過飽和度，反復(fù)升降溫、濕法研磨以及關(guān)注結(jié)晶溶劑的組成。比如對于丙酮/水/甲叔醚這樣的三元溶劑在不得不使用時(shí)，甲叔醚需要在大量析出內(nèi)源晶種后再加入。如果在結(jié)晶的初始階段加入甲叔醚，由于它和水較差的混溶性，在高過飽和度下可能會大量析出團(tuán)聚物。而如果選擇在析出大量內(nèi)源晶種后加甲叔醚，由于體系已經(jīng)存在>70%的獨(dú)立晶種，并且母液濃度低，添加的甲叔醚更多的推動(dòng)晶體生長，產(chǎn)品中沒有發(fā)現(xiàn)團(tuán)聚物。
對于一些化合物，小粒度的產(chǎn)品在低過飽和度下具有更高的純化效果。因此傾向于選擇粉碎后高純度的晶型作為晶種。這樣由于充足的比表面積，可以將過飽和度有效的消耗于晶體生長，避免二次成核造成的晶體缺陷與不確定性。
當(dāng)所處理的化合物粒度要達(dá)到非常細(xì)，分散程度高的時(shí)候，對于設(shè)備的要求就會非常的高。而從設(shè)備角度來考慮的話，能夠達(dá)到超細(xì)的效果，要具備以下條件：
1、XX的剪切力，CMSD2000系列研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，線速度為44m/s，是普通設(shè)備的4-5倍。
2、高經(jīng)密度的定轉(zhuǎn)子，超細(xì)研磨分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子分為兩，一為膠體磨磨頭，采用三錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)，磨頭的溝槽的深度角度都符合流體力學(xué)的設(shè)計(jì)。第二是分散頭，IKN分散頭有六種不同的規(guī)格，從粗到細(xì)，越來越密，分散效果佳。
3、機(jī)械密封，超細(xì)的效果取決于高的轉(zhuǎn)速，而轉(zhuǎn)速越高機(jī)械密封的發(fā)熱量就會越大，設(shè)備的機(jī)械密封是否能夠耐的住這么高的轉(zhuǎn)速，國nei大多數(shù)廠家的機(jī)械密封是wu法承受的，上海依肯CMSD系列采用的是德國雙端面集裝箱式機(jī)械密封。當(dāng)有持續(xù)的冷凍水提供給機(jī)械密封時(shí)，設(shè)備可24小時(shí)連續(xù)生產(chǎn)。
IKN管線式研磨分散機(jī)的技術(shù)參數(shù)：
研磨分散機(jī)
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
CMD 2000/4
700
14000
40
4
DN25/DN15
CMD 2000/5
5,000
10,500
40
11
DN40/DN32
CMD 2000/10
10,000
7,300
40
22
DN50/DN50
CMD 2000/20
30,000
4,900
40
45
DN80/DN65
CMD 2000/30
60,000
2,850
40
75
DN150/DN125
CMD 2000/50
100000
2,000
40
160
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
IKN研磨分散機(jī)是上海依肯機(jī)械設(shè)備公司和德國IKN工程師合作研發(fā)的一款高科技產(chǎn)品，由膠體磨、分散機(jī)組合而成；是國內(nèi)較早一款將研磨和分散兩種功能結(jié)合的流體設(shè)備。能在設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)過程中根據(jù)工藝需要在線即時(shí)調(diào)節(jié)物料的粉碎研 磨細(xì)度。
1.線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力非常強(qiáng)烈，通常所說的超細(xì)濕磨
2.定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。
3.定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
4.在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。
5.高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
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