石墨烯改性導電銀漿高速分散機，納米導電銀漿高速分散機，導電漿料高速分散機，14000prm高速分散機

石墨烯導電漿料是一種由石墨烯和添加劑混合而成的漿料。石墨烯是一種由單層碳原子形成的平面晶體結(jié)構(gòu)，它具有的電導率和導熱率。這使得石墨烯成為制備導電材料的理想原材料。添加劑通常是一些有機分子，它們可以調(diào)節(jié)漿料的黏度和穩(wěn)定性。石墨烯導電漿料可以通過印刷、噴涂或旋涂等方法在基材上形成導電薄膜。

石墨烯改性導電銀漿的制備過程：

1制備好的導電顆粒與分散劑、溶劑和助劑等材料混合，形成漿料；

2導電銀漿中的導電顆?？赡軙霈F(xiàn)聚集現(xiàn)象，影響其導電性能。因此，需要進行漿料的分散處理，常用的方法包括超聲波分散和機械剪切分散

3分散處理后的導電銀漿需要進行過濾和干燥，以去除其中的雜質(zhì)和溶劑。首先，將漿料進行過濾，去除顆粒和雜質(zhì)等固體物質(zhì)。然后，通過干燥將漿料中的溶劑完全去除，得到固態(tài)的導電銀漿?。

上海依肯結(jié)合客戶實驗案例，采用IKN研磨分散機進行銀粉處理，不僅生產(chǎn)效率快，一般研磨5-10遍即可；而且這種方式相對于三輥機以及砂磨機而言，物料損失更小。

上海依肯膠體磨綜合了均質(zhì)機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能，具有的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后，粒度達2～50微米，均質(zhì)度達90%以上，是超微粒加工的理想設備。該機適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標已達到國外同類產(chǎn)品的xian進水平。

膠體磨CMSD2000系列特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CMSD在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。CMSD2000整機采用##幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，表面處理和材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

上海依肯膠體磨采用了三級錯齒磨頭定轉(zhuǎn) 子，磨頭定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.7mm之間，間隙可通過調(diào)節(jié)高速勻漿機本身的調(diào)節(jié)柄來調(diào)節(jié)設備間隙，在轉(zhuǎn)速不變的情況下，間隙越小，高速研磨、分散效果會越好。高速膠體磨顧名思義，管線式高速膠體磨有著非比尋常的轉(zhuǎn)速，IKN工程師們通過改變皮帶輪的傳動比例，是原本只有3000rpm的電機，經(jīng)過傳 動后設備轉(zhuǎn)速可以高達9000rpm。實踐證明，在磨頭定轉(zhuǎn)子間隙不變的情況下，轉(zhuǎn)速越高，高速勻漿機研磨、分散效果越好。如果客戶想要使物料達到更好的 效果，我們提供丹弗斯變頻器供客戶選擇，高速勻漿機在變頻后轉(zhuǎn)速可以達到14000rpm，是guo內(nèi)設備轉(zhuǎn)速的4-5倍，可謂是ji速。

上海依肯膠體磨由電動機、連接體、磨頭等組成，磨盤采用不銹鋼鍛壓制成，磨盤表面有三個以上溝槽，分為三級。每一級的溝槽刀齒數(shù)量、方向及寬度不同，越是 向外延伸一級，磨片精度越高、齒距越小、線速度越長、物料越磨越細、刀齒的數(shù)量越多、剪切面越大、線速度越長、流體速度越快、細化效果越好。機械密封分： 硬質(zhì)內(nèi)裝機械密封、外裝雙面硬質(zhì)機械密封、金屬波紋硬質(zhì)機械密封等三種密封可選。磨盤刀齒根據(jù)需要可以進行特殊氮化處理，增強刀齒的硬度，起到更耐磨、耐 腐蝕的作用。轉(zhuǎn)磨與定磨可根據(jù)物料粘度、產(chǎn)量、顆粒細度進行手工調(diào)節(jié)，其功效為剪切率大、線速度長、無、處理量大、均質(zhì)細化效果好。

CMSD2000系列高剪切膠體磨是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。CMSD2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成 的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的 距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

膠體磨內(nèi)部結(jié)構(gòu)及分析：

粉碎室設有三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三層為超微磨碎區(qū)，通過調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙，能有效地達到所需的超微粉碎效果（也可循環(huán)加工）。

混合區(qū)：首先將物料通過混合攪拌裝置進行高速混合，在混合過程中用螺旋混合漿葉使物料在高速運轉(zhuǎn)中的到充分混合均質(zhì)后送料給下道工藝；

剪切區(qū)：物料進入剪切區(qū)后，由于上道工序只把物料進行混合，沒有把物料進行大顆粒破碎，這個問題由高剪切機來完成，該剪切區(qū)由三層數(shù)百條刀槽組成，將大的粘團結(jié)塊等易碎顆粒進行剪切破碎。

研磨區(qū)：研磨區(qū)是由凹凸膠體磨組成，轉(zhuǎn)定子切有許多中齒及細齒組成，將已剪切的小顆粒進行深化研磨，研磨時可調(diào)距離為0.01~3mm；

1、有較強的混合、粉碎、研磨、輸送功能；

2、可使用較硬的各類易碎顆粒；

3、 可同過調(diào)節(jié)定轉(zhuǎn)子間隙進而調(diào)節(jié)循環(huán)研磨所需時間；

4、 定、轉(zhuǎn)子間歇可以調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)距離為0.01~3mm，可降低啟動負荷，從而減少能耗

5、 轉(zhuǎn)、定子材料可選用2cr13 9cr18 2205進行氮化處理貨滲碳化鎢處理。

三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的膠體磨的速度達到3倍以上,的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

膠體磨的研磨細度和產(chǎn)量可以調(diào)節(jié)，物料在膠體磨中的研磨指數(shù)與下列因素有關(guān)：

1.物料的成熟度。成熟度高的，易于研磨。

2.膠體磨磨頭軸的轉(zhuǎn)速即線速度，轉(zhuǎn)速快，則物料的研磨時間短。

3.物料直徑。直徑大的，打碎的程度差。

4.有效面積系數(shù)。系數(shù)大，物料研磨時間亦短。

5.導呈角大小。導呈角大的，物料在膠體磨中停留的時間亦短。

膠體磨的型號參選要點：

粉碎稀質(zhì)物料宜選用循環(huán)管式，可對物料自動反復加工，并便于上下工序銜接。

粉碎粘稠物料宜選用帶刮板的直出口式。

粉碎硬物料宜選用高硬齒。高硬齒膠體磨采用特殊工藝方法，磨齒硬度可達HV1400～1600。

普通建筑涂料、鑄造涂料的粉碎加工可采用涂料磨，涂料磨的磨座為碳鋼材料，涂料磨價格低廉。

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