VAE乳液(醋酸乙烯酯-乙烯共聚乳液)在生產(chǎn)與應用中確實涉及乳化、研磨、均質(zhì)等工藝,這些工藝對乳液的穩(wěn)定性、性能及終應用效果至關重要。以下是具體分析:
一、生產(chǎn)過程中乳化、均質(zhì)工藝的應用
乳化工藝
VAE乳液的核心生產(chǎn)步驟是乳液聚合,其本質(zhì)是通過乳化劑將單體(如乙酸乙烯酯、乙烯)分散在水中形成穩(wěn)定的乳液體系。常用乳化方法包括:
高速剪切乳化:利用機械攪拌產(chǎn)生剪切力,將單體分散成微小液滴,形成均勻乳液。
超聲波乳化:通過超聲波的空化效應細化分散相,提高乳液均勻性。
半連續(xù)乳液聚合:單體、引發(fā)劑、乳化劑分階段加入反應釜,通過乳化劑控制聚合物粒子的粒徑和分布。
乳化劑的選擇(如陰離子、非離子型)直接影響乳液的穩(wěn)定性和成膜性。
超細剪切分散設備,漿料納米研磨分散機是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學反應的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”精細分布。超細剪切分散設備,漿料納米研磨分散機,管線式膏霜分散機,高速高剪切分散機,固液懸浮液超微細分散機,超細分散進口分散機
固體顆粒分散到一種液體中時,形成一種懸浮液。當一種液體分散到另一種液體中時,形成一種乳濁液。在一種乳濁液的兩個液相間的界面處,表面張力開始發(fā)生作用。新表面的產(chǎn)生需要能量。在沒有外部影響的情況下,每個液相體系均企圖以較少的能量達到乳濁液狀態(tài)。因此,總是會有產(chǎn)生較小界面的傾向,這阻礙任何乳濁液的形成。分層 沉淀 等等 為什么呢 他們不是超細分散
為了達到巨大的能量輸入,IKN采用提高定轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速的方法。在電機固定三千轉(zhuǎn)的前提下,我們采用立式的結(jié)構(gòu)通過皮帶加速達到15000轉(zhuǎn)。這很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高轉(zhuǎn)速下保持穩(wěn)定——軸承的強度夠不夠?機械密封會不會因為產(chǎn)生大量的熱而損毀泄露?主軸會不會偏振的很厲害,定轉(zhuǎn)子是否會發(fā)生摩擦?這些是IKN的關注點,也應該是廣大客戶在選型時應該重視的幾個方面。
IKN連續(xù)式分散機與傳統(tǒng)的批次式分散機相比:
(1)分散效率更高。批次式分散機在進行分散前往往還需要預攪拌,在其基礎上才能實現(xiàn)較好的分散混合的效果,因此所需時間更多,產(chǎn)量較少,適用于不連續(xù)生產(chǎn)或產(chǎn)量較小的情況;而連續(xù)式分散機則可以直接進行投料,更短時間內(nèi)能夠?qū)崿F(xiàn)混合液的粒徑要求,產(chǎn)量更大,效率高,適用于連續(xù)生產(chǎn),產(chǎn)量大的情況。
(2)分散效果更好。批次式分散機安裝在罐體內(nèi),物料與分散頭距離松散,工作時依靠強大的吸力迫使物料進入分散頭中,但分散過程中仍存在部分物料逃逸情況,混合分散后粒徑分布較寬,此外批次式分散機一般僅為單層分散頭結(jié)構(gòu),不能實現(xiàn)足夠小的粒徑要求;而連續(xù)式分散機由于分散腔內(nèi)部設計空間更小。分散頭與物料接觸密切,剪切chong分,分散腔內(nèi)設計成多層定轉(zhuǎn)子咬合結(jié)構(gòu),優(yōu)化了粗細齒形結(jié)構(gòu),可使混合分散后的粒徑分布較窄,效率更高。
(3)技術功能指標更好。CMSD2000系列產(chǎn)品與批次式產(chǎn)品比較在相同的馬達情況下,轉(zhuǎn)速有明顯優(yōu)勢,具有相對節(jié)能gao效的優(yōu)點,可以在更短時間內(nèi)處理更多符合要求的物料產(chǎn)品,能夠為大批量生產(chǎn)的企業(yè)實現(xiàn)生產(chǎn)過程中成本的降低。
IKN研磨分散機是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)分散機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在分散頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種分散頭供客戶選擇)。
Ikn研磨分散機設備結(jié)構(gòu):
第yi級由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。
CMSD 2000系列研磨分散機設備選型表
型號
流量
L/H
轉(zhuǎn)速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
DN
CMSD 2000/4
300
14000
41
4
DN25/DN15
CMSD 2000/5
1000
10500
41
11
DN40/DN32
CMSD 2000/10
4000
7200
41
22
DN80/DN65
CMSD 2000/20
10000
4900
41
45
DN80/DN65
CMSD 2000/30
20000
2850
41
90
DN150/DN125
CMSD 2000/50
60000
1100
41
160
DN200/DN150