硅有晶態(tài)和無(wú)定形兩種同素異形體。晶態(tài)硅又分為單晶硅和多晶硅，它們均具有金剛石晶格，晶體硬而脆，具有金屬光澤，能導(dǎo)電，但導(dǎo)電率不及金屬，且隨溫度升高而增加，具有半導(dǎo)體性質(zhì)。
單晶硅在日常生活中是電子計(jì)算機(jī)、自動(dòng)控制系統(tǒng)等現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)中不可缺少的基本材料。電視、電腦、冰箱、電話(huà)、手表、汽車(chē)，處處都離不開(kāi)單晶硅材料，單晶硅作為科技應(yīng)用普及材料之一，已經(jīng)滲透到人們生活中的各個(gè)角落。
單晶硅在火星上是火星探測(cè)器中太陽(yáng)能轉(zhuǎn)換器的制成材料?；鹦翘綔y(cè)器在火星上的能量全部來(lái)自太陽(yáng)光，探測(cè)器白天休息---利用太陽(yáng)能電池板把光能轉(zhuǎn)化為電能存儲(chǔ)起來(lái)，晚上則進(jìn)行科學(xué)研究活動(dòng)。也就是說(shuō)，只要有了單晶硅，在太陽(yáng)光照到的地方，就有了能量來(lái)源。
單晶硅在太空中是航天飛機(jī)、宇宙飛船、人造衛(wèi)星必不可少的原材料。人類(lèi)在征服宇宙的征途上，所取得的每一步進(jìn)步，都有著單晶硅的身影。航天器材大部分的零部件都要以單晶硅為基礎(chǔ)。離開(kāi)單晶硅，衛(wèi)星會(huì)沒(méi)有能源，沒(méi)有單晶硅，航天飛機(jī)和宇航員不會(huì)和地球取得聯(lián)系，單晶硅作為人類(lèi)科技進(jìn)步的基石，為人類(lèi)征服太空作出了不可磨滅的貢獻(xiàn)。
從各企業(yè)生產(chǎn)情況看，目前全國(guó)在產(chǎn)多晶硅企業(yè)14家，江蘇中能及新特能源仍維持超負(fù)荷運(yùn)行，江蘇中能6.8萬(wàn)噸/年改良西門(mén)子法超載運(yùn)行，年產(chǎn)量達(dá)7.2萬(wàn)噸左右，正常狀態(tài)下每月產(chǎn)量在6100-6200噸（按31天算）。特變電工進(jìn)入2016年開(kāi)始，每月維持在2200噸左右的超負(fù)荷生產(chǎn)，產(chǎn)量仍居國(guó)內(nèi)第二位。洛陽(yáng)中硅在2015年8月份技改結(jié)束后，產(chǎn)量從9月份開(kāi)始增加到千噸以上，仍位居國(guó)內(nèi)第三。國(guó)內(nèi)其他企業(yè)月產(chǎn)量在千噸以上的有：新疆大全、四川永祥、亞洲硅業(yè)，這三家企業(yè)在1-2月份期間除四川永祥因電網(wǎng)線(xiàn)路問(wèn)題影響產(chǎn)量外，其他均正常生產(chǎn)。多晶硅回收找伍征，其余月產(chǎn)量在千噸以下的企業(yè)也有部分在檢修技改，以期在未來(lái)淘汰整合過(guò)程中贏得先機(jī)。
目前硅片的生產(chǎn)已經(jīng)采用多線(xiàn)鋸切割方法，可以生產(chǎn)出面積較大（25cm×25 cm）而厚度又相對(duì)較薄的硅片，但是在此方法的操作過(guò)程中，金屬絲要受到多種力的激勵(lì)，還要受到機(jī)械結(jié)構(gòu)的影響，就不可避免的在切割過(guò)程中產(chǎn)生變形與振動(dòng)，瞬間性的沖擊就會(huì)作用在切割的硅片上。為了避免此現(xiàn)象的發(fā)生硅片的切割厚度也從300μm左右進(jìn)一步降低，爭(zhēng)取實(shí)現(xiàn)低成本高線(xiàn)切割及減少切縫損耗，但是難度是相當(dāng)?shù)拇?。因此?shí)現(xiàn)太陽(yáng)能晶硅電池行業(yè)生產(chǎn)效率的提高及生產(chǎn)成本的降低，對(duì)于開(kāi)展寸超薄硅片切割方法的開(kāi)拓與創(chuàng)新研究是勢(shì)在必行的。
對(duì)硅片行業(yè)稍微有些了解的人都應(yīng)該知道，廢硅片回收之后是必須要清洗的，而且我們還要對(duì)清洗過(guò)程給予必要的重視，不能馬馬虎虎，因?yàn)楣杵厥涨逑吹男蕦⒅苯佑绊懙狡骷某善仿?、性能和可靠性。下面我們就?lái)了解一下費(fèi)硅片回收清洗的重要性。
現(xiàn)在人們已研制出了很多種可用于廢硅片回收清洗的工藝方法和技術(shù)，常見(jiàn)的有：濕法化學(xué)清 洗、超聲清洗法、兆聲清洗法、鼓泡清洗法、擦洗法、高壓噴射法、離心噴射法、流體力學(xué)法、流體動(dòng)力學(xué)法、干法清洗、微集射束流法、激光束清洗、冷凝噴霧技 術(shù)、氣相清洗、非浸潤(rùn)液體噴射法、廢硅片回收在線(xiàn)真空清洗技術(shù)、RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗、等離子體清洗、原位水沖洗法等。這些方法和技術(shù)現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于廢硅片回收 加工和器件制造中的廢硅片回收清洗。
表面沾污指硅表面上沉積有粒子、金屬、有機(jī)物、濕氣分子和自然氧化物等的一種或幾種。超純表面定義為沒(méi)有沾污的表面, 或者是超出檢測(cè)量極限的表面。